隨著（zhe）塑（sù）料製（zhì）品日溢廣泛的（de）應用，如（rú）日化用品（pǐn）和飲料包（bāo）裝容器等，外觀的需要往（wǎng）往要求塑料模具型腔的表麵達到鏡麵拋光的程度。而生產光學鏡片、鐳射唱片等模具對表麵粗糙度要求極高（gāo），因（yīn）而對（duì）拋光性的要求也極高。

拋光不僅（jǐn）增（zēng）加工（gōng）件的美觀，而且能夠改善材料表麵的耐腐蝕（shí）性、耐（nài）磨性，還可以使模具（jù）擁（yōng）有其它優點，如使塑料製品易於脫模（mó），減少生（shēng）產注塑周期等。因而拋光（guāng）在（zài）塑料模具製作過（guò）程中是很重要的一（yī）道工序。

目前常用的拋光方法有以（yǐ）下幾種：

1.1 機（jī）械拋光（guāng）

機械拋光（guāng）是*切削、材料表麵塑性變形去掉被拋光（guāng）後的（de）凸部而得到平滑麵的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂（shā）紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表（biǎo）麵，可使用轉台等輔助工具，表麵質量（liàng） 要求高的可（kě）采用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特（tè）製的磨（mó）具，在含（hán）有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表（biǎo）麵上，作高速旋轉運動。利（lì）用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具（jù）常采用這種方法。

1.2 化學拋光

化學拋光是讓材（cái）料在化學介（jiè）質中（zhōng）表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而（ér）得到平滑麵。這種方法的主（zhǔ）要優點是不需複（fù）雜設備，可以拋光形狀複雜的（de）工件，可以同時拋光很（hěn）多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光（guāng）液的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數10μm。

1.3 電解（jiě）拋光

電解拋光基本（běn）原理與化學拋光相同，即*選擇性的溶解材料表麵微小凸出部（bù）分，使表麵光滑。與化學拋（pāo）光相比，可以（yǐ）消除陰極反應的影響，效果（guǒ）較好。電化學拋光過程分為兩步：

（1）宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散，材料表麵幾何粗糙下降，Ra＞1μm。

（2）微光平整 陽極極（jí）化，表麵光亮度提高，Ra＜1μm。

1.4 超聲波拋光

將工件放入磨料懸浮液中並一（yī）起置於超聲波場中，依（yī）*超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表（biǎo）麵磨削拋光。超聲波加（jiā）工宏觀力小，不會引起工件變形，但工裝製作和安裝較困（kùn）難。超聲（shēng）波加工可以與化學或電化學方法（fǎ）結合。在溶液腐蝕（shí）、電解的基礎上，再（zài）施加超（chāo）聲波振動攪拌溶液，使工件表（biǎo）麵溶解產物脫離，表麵（miàn）附近的腐蝕或電解質均勻；超聲（shēng）波在液體中的空化作用還能夠抑製腐蝕過程，利於表麵光亮化

1.5 流體拋光

流體拋光是依（yī）*高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷（shuā）工件表麵達到（dào）拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工（gōng）、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動（dòng）力研磨是由液壓（yā）驅動，使攜帶磨粒的液（yè）體（tǐ）介質高速往複流過工（gōng）件表麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合（hé）物狀物質）並摻上磨料製成，磨料（liào）可采（cǎi）用碳化矽粉末。

1.6 磁研磨拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質量好，加工條件容（róng）易控製，工作條件好（hǎo）。采用合適的磨料（liào），表麵粗糙度（dù）可以達到Ra0.1μm。

在（zài）塑料模（mó）具加工中所說的拋光與其（qí）他行（háng）業中所要求的表麵拋光有很大的不同，嚴格來說，模具的拋光應該稱為鏡麵加工。它不僅對拋光本身有很高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及幾何（hé）精確度也有很高的（de）標準。表麵拋光一般隻要求獲得光亮的表麵即可（kě）。

鏡麵加工的標準分為四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光、流體拋光等方法很難精確控製零件的幾何精（jīng）確度，而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表麵質量又達不到要求，所以（yǐ）精密模具的鏡麵加工（gōng）還是以機械拋（pāo）光為主。

機（jī）械拋光（guāng）基本程序

要（yào）想獲得高質量的拋光效果，最重要的（de）是要具備有高質量的油石（shí）、砂紙和鑽石研磨膏等（děng）拋光工具和（hé）輔助品。而拋光程（chéng）序的選擇（zé）取決於前期加工後的表麵狀況，如機械加工、電火花加工，磨加工等（děng）等。機械拋光的一般過程如下：

1、粗拋

經銑、電火花、磨等（děng）工藝後的表麵可以選（xuǎn）擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表（biǎo）麵拋光機或超（chāo）聲波研磨機進行（háng）拋光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪（lún）子（zǐ）去除（chú）白（bái）色電火花層。然後是手工油石研磨，條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的（de）使用順序（xù）為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了節約時間而選擇從#400開始。

2、半精拋

半精（jīng）拋主要使（shǐ）用砂紙和煤油。砂紙的號數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙隻用適於淬硬的模具鋼（52HRC以上），而不適用於（yú）預硬鋼，因為（wéi）這樣可能（néng）會導致預硬鋼件表麵燒傷。

3、精拋

精拋主（zhǔ）要（yào）使用鑽石（shí）研磨（mó）膏。若用拋（pāo）光布輪（lún）混合鑽石研磨粉或研磨膏進行（háng）研磨的話，則通常的研磨順序是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研磨膏（gāo）和拋光布輪可用來（lái）去除#1200和#1500號砂（shā）紙留下的發狀磨痕。接著用粘氈和鑽石研磨膏進行拋光，順序為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要求在1μm以上（包括1μm）的拋光工藝在（zài）模（mó）具加工車（chē）間中一個（gè）清潔（jié）的拋光室內即可進行（háng）。若進行更加精密的拋光則必需一個絕對潔淨（jìng）的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑和（hé）口（kǒu）水沫都有可能報廢數個小時工作後得到的高精密拋光表麵。

機械拋（pāo）光（guāng）中要注意的（de）問題

用砂紙拋光應注意以下幾點：

1、用砂紙拋光需要利用軟的木棒或竹棒。在拋光圓麵或球麵時，使用軟木棒可更好的配合圓麵（miàn）和球麵的弧度。而較硬的木條像櫻桃木，則更適用於平整表麵的拋（pāo）光。修整木條的末端使其能（néng）與鋼件（jiàn）表麵形狀保（bǎo）持吻合，這樣可（kě）以避免木條（或竹條）的銳角（jiǎo）接觸鋼件表麵而造成較深的劃痕。

2、當換用不（bú）同型（xíng）號的（de）砂紙時，拋光方向應變換45°~ 90°，這樣前一種型（xíng）號砂紙（zhǐ）拋（pāo）光後留下的條紋陰影即可分辨出來。在換不同型號砂紙之前，必須用100％純棉花沾取酒精之類的清潔液（yè）對拋光表麵進行仔細的擦拭，因為一顆很小的沙礫留在表麵都會毀壞接下去的整個拋光工作。從（cóng）砂紙拋光換成鑽石研磨膏拋光時，這個清潔過程同（tóng）樣（yàng）重要。在（zài）拋光（guāng）繼續進（jìn）行之前，所有顆粒和煤油都必須被完全清（qīng）潔幹淨。

3、為了避免擦傷和燒傷工件表麵，在用#1200和#1500砂紙進行拋（pāo）光（guāng）時必須（xū）特別小心。因而有必要加載一個（gè）輕載荷以及采用兩步拋光（guāng）法對表麵進（jìn）行拋光。用每（měi）一種型號（hào）的砂（shā）紙進行拋光（guāng）時都應沿兩個不同（tóng）方向進行兩次拋光，兩個（gè）方向之（zhī）間每次轉動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光應注意以下幾點：

1、這種拋光必須盡量在較輕的壓力下進行特（tè）別是（shì）拋（pāo）光預硬鋼件和用細研磨膏拋光時。在用#8000研磨膏（gāo）拋光時，常用載荷為100~200g/cm2，但要保持此（cǐ）載荷的精準度很難做到。

為了更容易做到這一點，可（kě）以在木條上做一（yī）個薄且窄的（de）手柄，比如加一銅片（piàn）；或（huò）者在竹條上切去一部分而使其更加柔（róu）軟。這樣可以幫助控製拋光壓力，以確保模（mó）具表麵壓力不會過高。

2、當使用鑽石研磨拋光時，不（bú）僅是工作表麵要求潔淨（jìng），工作者的雙（shuāng）手也必須仔細清潔。

3、每次拋光時間不應過長，時間越短，效（xiào）果越好。如果（guǒ）拋光過（guò）程進行得過長將會造成“橘皮”和“點蝕（shí）”。

4、為獲得（dé）高質量的拋光效果，容易發熱的拋光方法和工具都應避免。比如：拋光輪拋（pāo）光，拋光輪產生的熱量會很（hěn）容易造成“橘皮”。

5、當拋光過程停止時，保證（zhèng）工件表（biǎo）麵潔淨和（hé）仔細去除所有研磨劑和潤滑劑非常（cháng）重要，隨後應在表麵噴淋一層模具防鏽塗層。

由於機（jī）械拋光主要還是*人工完成（chéng），所以拋光技術目前（qián）還是影（yǐng）響拋光質量的（de）主要原（yuán）因。除此之外，還與模具材料、拋光（guāng）前的表麵狀（zhuàng）況、熱處理工藝等有關（guān）。優質的鋼（gāng）材是獲得良好拋（pāo）光質量的前提條件，如果鋼材表（biǎo）麵硬度不均或特性上有（yǒu）差（chà）異，往往會產生拋光困難。鋼材中的各種夾雜物和氣孔都不利於拋光（guāng）。

不同硬度對拋光工藝（yì）的影響（xiǎng）

硬度增高（gāo）使（shǐ）研磨的困難增大，但拋光後的粗糙度減小。由於硬度的增高，要達到（dào）較低（dī）的粗糙（cāo）度所需的拋光時間相應增長。同時（shí）硬度增高，拋光過度的可能（néng）性相應減少。

工件表麵狀況對拋光工藝的影響

鋼材在切削機械加工的破碎過程中，表層會因熱量、內應力或其他因（yīn）素而損壞，切削參數不當會影響拋光效果。電火花加工後的表麵比普通機械（xiè）加工或熱處理後的表麵更難研磨，因（yīn）此（cǐ）電火花加工結束前應采用精規準電火花修整，否則表麵會形（xíng）成硬化薄（báo）層。

如果電火（huǒ）花精修規準選擇不當，熱影（yǐng）響層（céng）的深度（dù）最大可達0.4mm。硬化薄層的（de）硬度比基體硬度高（gāo），必須去除。因此最（zuì）好增加（jiā）一道粗磨加工，徹底（dǐ）清除損壞表麵（miàn）層，構成一片平均粗糙的金屬麵，為拋（pāo）光加工提供一個良好基礎。

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