塑料（liào）成型（xíng）工藝中描述的拋光與其（qí）他行業所需的（de）表麵（miàn）拋光有很大不同，嚴格（gé）來說，模具的（de）拋光應稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光

本身有很高的（de）要求，而且對表麵平整度、的平滑度和幾何精度也有很高的標準。表麵拋光（guāng）通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程（chéng）中，它是難以準確地控（kòng）製各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵（miàn）質量不是必需的，精密模具（jù）主要是（shì）基於（yú）機械拋光。 。

　　1、半精細拋光（guāng）主要使用（yòng）砂紙實驗室和煤油協會。

　　2、精密拋光主要製作金剛石膏。通常的（de）磨（mó）削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂（shā）紙（8000）的＃1500離開頭發的痕（hén）跡，拋光布（bù）為9um的金（jīn）剛石（shí）研磨膏你可以使用方向（xiàng）盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料（liào）進行拋光。要求精度為1微（wēi）米或更大（包括（kuò）1微米）的（de）拋光工藝

必須是絕（jué）對清潔（jié）的空間（jiān），用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮（pí）屑和唾液可能具有高精度拋光表麵，可（kě）在工作數小時（shí）後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光（guāng）的基本程序，高質量的拋光效果，最重（chóng）要的是要有高（gāo）質（zhì）量的（de）拋光（guāng）工具和砂紙（zhǐ）和研磨膏等配件（jiàn）。最重要（yào）的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之（zhī）後磨（mó）削表麵可以被選（xuǎn）擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋（xuán）轉。常見的方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白（bái）色火花層。然後手（shǒu）動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑（jì）。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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